EV 2.0 Series

EV 2.0 Endpoint and Chamber Health Monitor
EV 2.0 Endpoint and Chamber Health Monitor
EV 2.0 Endpoint and Chamber Health Monitor

プラズマ発光モニタ

半導体製造プロセスでは、成膜やエッチングをはじめとし、多種多様な製造工程で、プラズマ技術が利用されています。
プロセスの終点検知やコンディション管理、プラズマ診断など、各種プラズマチャンバーの研究開発から生産ラインまで、幅広い用途に対応可能なプラズマ発光モニタです。
今回新規に開発された高分解能・ワイドレンジ・小型の3モデルから、用途に合わせて最適な仕様が選択可能です。また、専用の解析ソフトウェアにより、プラズマの微小な信号変化から精密なエンドポイントの検出やプラズマプロセスの異常監視など幅広いニーズに対応可能です。

事業セグメント: 半導体
製品分類: Dry Process Control
製造会社: HORIBA France SAS
  • 3モデルから用途に合わせて選択可能
  • プロセスチャンバーのウィンドウへの直付けが可能
  • 高度な専用ソフトウェアにより、研究開発から量産まで幅広く対応
  • 最大6チャンバー(プラズマ発光モニタ 6台)をPC 1台で同時に計測可能
Model高分解能タイプ
EV2.0 HR
ワイドレンジタイプ
EV2.0 STD
小型タイプ
EV2.0 LR
測定波長範囲300 - 800 nm200 - 1050 nm300 - 900 nm
焦点距離75 mm75 mm20mm
波長分解能1 nm2.5 nm6.5 nm
検出器裏面入射型CCDイメージセンサ
(素子数 : 2048 x 16)
センサユニット寸法105 x 135 x 135 mm105 x 135 x 135 mm70 x 135 x 125 mm
センサユニット質量850g850g610g
センサユニット電源仕様DC 24VDC 24VDC 24V
アプリケーションソフトウェアSigma-P、Recipe Designer2.0

※センサユニット及び、PCには、AC100V電源が付属します。
※光ファイバ、チャンバーアダプタ、マルチチャンネル用PC、その他仕様につきましては、お問合せください。

Process Control and In-situ Measurement for Photovoltaic Manufacturing Process

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