椭圆偏振光谱是一种表面敏感、非破坏性、非侵入性的光学技术，广泛应用于薄层和表面特征。它基于线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变，通过模型拟合获得厚度以及光学常数等。根据薄膜材料的不同，可测量的厚度从几个Å到几十微米。椭圆偏振光谱是一种很好的多层膜测量技术。

椭圆偏振光谱仪可以表征薄膜的一系列特性，如膜厚、光学特性(n,k)、光学带隙、界面和粗糙度厚度，薄膜组成，膜层均一性，等等。

椭圆偏振光谱适合分析的材料包括半导体、电介质、聚合物、有机物和金属。也可用于研究固-液或液-液界面。

HORIBA椭圆偏振光谱仪采用新型高频偏振调制技术，测试过程中无任何机械旋转。与传统椭偏仪相比，更快的测试速度、更宽的测量范围以及更高的表征精度。