Sari la conținut

Depunere chimică în fază de vapori

De la Wikipedia, enciclopedia liberă

Depunere chimică în fază de vapori (simbolizat CVD, din engleză Chemical vapor deposition) este o metodă de depunere utilizată pentru producerea unor materiale solide de calitate înaltă, realizată de obicei sub vid. Metoda este adesea utilizată în industria semiconductorilor pentru producerea de filme subțiri.

Într-o metodă CVD obișnuită, plăcuța substrat este expusă unuia sau mai multor precursori volatili, care au rolul de a reacționa și a se depune pe suprafața substratului sub forma produsului dorit. De obicei se formează și produși secundari volatili, iar aceștia trebuie eliminați din camera de reacție.


Legături externe

[modificare | modificare sursă]