업계에 따르면 이달 초 국토교통부와 삼성전자는 국토교통부는 ‘용인 첨단시스템반도체 국가산업단지’의 2025년 착공 관련 논의에 들어갔다. 이에 반도체 산단의 팹 가동 시기도 빨라질 것으로 점쳐지고 있다.
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현재 19개의 생산팹과 2개의 연구팹이 집적된 메가 클러스터에 오는 2047년까지 622조원의 민간 투자를 통해 총 16개의 신규팹이 신설될 계획이다.
세계 최대 규모로 조성되는 만큼 전력·용수 공급 문제가 핵심 과제로 꼽혔다. 정부는 용수, 도로 등 인프라를 책임지고 조성하겠다며 26조원 규모의 반도체 산업 종합 지원 프로그램을 발표했다.
이에 반도체 공장 건설과 제품 생산에 필요한 배관·가스 공급용 강관 생산 업체들이 수혜주가 부각될 것으로 예상된다. 다양한 설비에 공급되는 냉각수, 세척용수 배관 등이 다량 요구되기 때문이다. 반도체 제조에 사용되는 가스 종류는 40여 종에 달하며 99.99% 이상 높은 순도를 유지해야 할 만큼 취급 조건이 민감하다.
아스플로(159010)는 고순도 용수 및 가스들이 반도체 생산공정에 사용될 수 있도록 스테인레스 강관을 세정해 고순도 강관과 각종 부품을 생산한다. 2005년 반도체 제조용 가스 운반 배관 부품을 국내 최초로 국산화한 바 있다. 이어 가스 압력을 조절하는 레귤레이터와 가스 출입을 조절하는 밸브, 이물질을 걸러주는 필터, 반도체 공정용 디퓨저 멤브레인 등을 잇따라 국산화했다.
반도체 공정 내 가스의 이송·분배 라인에 사용되는 스테인리스 강관은 특수소재로 소수 업체에서만 인증을 받아 납품한다. 이렘(009730)은 반도체 라인에 특화된 1차 스테인레스 강관을 생산해 삼성전자 등 국내 대기업에 납품하는 업체다.
이렘이 생산하는 배관용 스테인레스 용접강관은 냉각용수(PCW, Process Cooling Water) Line, 고순도 GAS Line, 클린룸용 초순수 Line 등의 핵심 공정용이다. 발렉스코리아, 아스플로 등을 통해 고순도 세정 처리를 거쳐 삼성전자, SK하이닉스(000660)에 공급 중인 것으로 알려졌다.
